什么是等離子處理？
（1）等離子處理中存在大量從電場(chǎng)獲取能量的電子。
（2）等離子處理中的電子動(dòng)能轉(zhuǎn)化為空間電荷的電場(chǎng)和熱能。
（3）等離子處理邊界處存在電場(chǎng)較強(qiáng)的鞘層區(qū)域，帶電粒子在該區(qū)域內(nèi)將被加速。
（4）等離子處理中的中性原子和分子受到高能電子和離子的碰撞，會(huì)變成帶電的自由基粒子。
（5）等離子處理中的高能粒子與材料相互作用，導(dǎo)致材料表面發(fā)生濺射和蒸發(fā)，而釋放出相關(guān)組元的粒子。
（6）等離子處理產(chǎn)生過(guò)程中的高能輻射是由原子躍遷或與電磁場(chǎng)的相互作用產(chǎn)生的。
等粒子噴涂是利用等離子弧進(jìn)行的，離子弧是壓縮電弧，與自由電弧相比較，其弧柱細(xì)，電流密度大，氣體電離度高，因此具有溫度高，能量集中，弧穩(wěn)定性好等特點(diǎn)。
按接電方法不同，等離子弧有三種形式：
①非轉(zhuǎn)移?。褐冈陉帢O和噴嘴之間所產(chǎn)生的等離子弧。這種情況正極接在噴嘴上，工件不帶電，在陰極和噴嘴的內(nèi)壁之間產(chǎn)生電弧，工作氣體通過(guò)陰極和噴嘴之間的電弧而被加熱，造成全部或部分電離，然后由噴嘴噴出形成等離子火焰(或叫等離子射流)。
等粒子噴涂采用的就是這類等離子弧。
②轉(zhuǎn)移?。弘娀‰x開(kāi)噴槍轉(zhuǎn)移到被加工零件上的等離子弧。這種情況噴嘴不接電源，工件接正極，電弧飛越噴槍的陰極和陽(yáng)極（工件）之間，工作氣體圍繞著電弧送入，然后從噴嘴噴出。
等離子切割，等離子弧焊接，等離子弧冶煉使用的是這類等離子弧。
③聯(lián)合弧:非轉(zhuǎn)移弧引燃轉(zhuǎn)移弧并加熱金屬粉末，轉(zhuǎn)移弧加熱工件使其表面產(chǎn)生熔池。這種情況噴嘴，工件均接在正極。
等離子噴焊采用這種等離子弧。進(jìn)行等粒子噴涂時(shí)，首先在陰極和陽(yáng)極（噴嘴）之間產(chǎn)生一直流電弧，該電弧把導(dǎo)入的工作氣體加熱電離成高溫等離子體，并從噴嘴噴出，形成等離子焰，等離子焰的溫度很高，其中心溫度可達(dá)30000°k，噴嘴出口的溫度可達(dá)15000～20000°k。焰流速度在噴嘴出口處可達(dá)1000～2000m/s，但迅速衰減。粉末由送粉氣送入火焰中被熔化，并由焰流加速得到高于150m/s的速度，噴射到基體材料上形成膜。
等粒子噴涂設(shè)備：等離子噴涂設(shè)備主要包括：
①噴槍：實(shí)際上是一個(gè)非轉(zhuǎn)移弧等離子發(fā)生器，是關(guān)鍵的部件，其上集中了整個(gè)系統(tǒng)的電，氣，粉，水等。
②電源：用以供給噴槍直流電。通常為全波硅整流裝置。
③送粉器：用來(lái)貯存噴涂粉末并按工藝要求向噴槍輸送粉末的裝置。
④熱交換器：主要用以使噴槍獲得有效的冷卻，達(dá)到使噴嘴延壽的目的。
⑤供氣系統(tǒng)：包括工作氣和送粉氣的供給系統(tǒng)。
⑥控制框：用于對(duì)水，電、氣、粉的調(diào)節(jié)和控制。等粒子噴涂工藝：

全自AOI在線檢測(cè)機(jī)檢測(cè)方法
1、檢測(cè)的電路板：SMT回流爐后電路板檢查
2、檢測(cè)方法：TOC算法，Histogram算法， Match算法， Short算法， OTHER算法， CREST算法， PIN算法等多種 
      國(guó)際良好算法，系統(tǒng)根據(jù)不同檢測(cè)自動(dòng)設(shè)定其參數(shù)。
3、光源：高亮RRGB同軸環(huán)形塔狀LED光源（彩色光）。
4、攝像頭：全彩色智能數(shù)字相機(jī)
5、檢測(cè)覆蓋類型：偏移、少錫、短路、污染、缺件、歪斜、立碑、側(cè)立、翻件、錯(cuò)件、破損、浮高、極性、虛焊等
     等。