什么是等離子處理？
（1）等離子處理中存在大量從電場(chǎng)獲取能量的電子。
（2）等離子處理中的電子動(dòng)能轉(zhuǎn)化為空間電荷的電場(chǎng)和熱能。
（3）等離子處理邊界處存在電場(chǎng)較強(qiáng)的鞘層區(qū)域，帶電粒子在該區(qū)域內(nèi)將被加速。
（4）等離子處理中的中性原子和分子受到高能電子和離子的碰撞，會(huì)變成帶電的自由基粒子。
（5）等離子處理中的高能粒子與材料相互作用，導(dǎo)致材料表面發(fā)生濺射和蒸發(fā)，而釋放出相關(guān)組元的粒子。
（6）等離子處理產(chǎn)生過(guò)程中的高能輻射是由原子躍遷或與電磁場(chǎng)的相互作用產(chǎn)生的。
直噴頭等離子處理器的技術(shù)優(yōu)勢(shì)主要體現(xiàn)在。
    1.等離子表面處理器是干式處理法：不消耗水、燃料、無(wú)須添加化學(xué)藥劑，插電即可使用。
    2.是在線處理：能夠輕松并聯(lián)到各種自動(dòng)化設(shè)備中，不需要額外的生產(chǎn)線。
    3.是智能化處理：安裝簡(jiǎn)單，任何電工看使用說(shuō)明書(shū)即可操作，三分鐘上手。
    4.是精細(xì)化處理：不僅能針對(duì)平面，也能針對(duì)3D曲面，能夠深入微細(xì)孔眼和凹陷的內(nèi)部完成清洗任務(wù)。
    5.是多領(lǐng)域處理：能夠?qū)崿F(xiàn)對(duì)絕大多數(shù)固態(tài)物質(zhì)的處理。
視覺(jué)檢測(cè)對(duì)機(jī)器選型的因素
在機(jī)器視覺(jué)系統(tǒng)中，獲得一張高質(zhì)量的可處理的圖像是至關(guān)重要。系統(tǒng)之所以成功，首先要保證圖像質(zhì)量好，特征明顯，。一個(gè)機(jī)器視覺(jué)項(xiàng)目之所以失敗，大部分情況是由于圖像質(zhì)量不好，特征不明顯引起的。要保證好的圖像，必須要選擇一個(gè)合適的光源。
光源選型基本要素：
對(duì)比度：對(duì)比度對(duì)機(jī)器視覺(jué)來(lái)說(shuō)非常重要。機(jī)器視覺(jué)應(yīng)用的照明的重要的任務(wù)就是使需要被觀察的特征與需要被忽略的圖像特征之間產(chǎn)生大的對(duì)比度，從而易于特征的區(qū)分。對(duì)比度定義為在特征與其周?chē)膮^(qū)域之間有足夠的灰度量區(qū)別。好的照明應(yīng)該能夠保證需要檢測(cè)的特征突出于其他背景。
亮度：當(dāng)選擇兩種光源的時(shí)候，佳的選擇是選擇更亮的那個(gè)。當(dāng)光源不夠亮?xí)r，可能有三種不好的情況會(huì)出現(xiàn)。第一，相機(jī)的信噪比不夠；由于光源的亮度不夠，圖像的對(duì)比度必然不夠，在圖像上出現(xiàn)噪聲的可能性也隨即增大。其次，光源的亮度不夠，必然要加大光圈，從而減小了景深。另外，當(dāng)光源的亮度不夠的時(shí)候，自然光等隨機(jī)光對(duì)系統(tǒng)的影響會(huì)大。
魯棒性：另一個(gè)測(cè)試好光源的方法是看光源是否對(duì)部件的位置敏感度小。當(dāng)光源放置在攝像頭視野的不同區(qū)域或不同角度時(shí)，結(jié)果圖像應(yīng)該不會(huì)隨之變化。方向性很強(qiáng)的光源，增大了對(duì)高亮區(qū)域的鏡面反射發(fā)生的可能性，這不利于后面的特征提取。
好的光源需要能夠使你需要尋找的特征非常明顯，除了是攝像頭能夠拍攝到部件外，好的光源應(yīng)該能夠產(chǎn)生大的對(duì)比度、亮度足夠且對(duì)部件的位置變化不敏感。光源選擇好了，剩下來(lái)的工作就容易多了。具體的光源選取方法還在于試驗(yàn)的實(shí)踐經(jīng)驗(yàn)。