實驗中當我們想要對各種材料的表面做清洗活化腐蝕沉積或者聚合等操作的時候，必不可少的就是一臺低溫等離子處理設備，而作為實驗室經(jīng)常使用的高精尖設備，如果使用低溫等離子設備的操作不當很有可能導致設備損壞或者運行結果受到影響，低溫等離子清洗設備使用的注意事項。




一，低溫等離子清洗設備在運行的時候對于電源的要求是220V的交流電頻率為50HZ的電源，應該在開啟設備之前做好電源的連接和檢查工作，設備運行之后應該發(fā)出的是平穩(wěn)的運轉聲，而且通常會有綠色的指示燈常亮來顯示設備正常運行，如果出現(xiàn)黃色故障燈亮起，則要停止運行進行排休檢查。


二，在使用三和波達低溫等離子清洗設備的時候，應該特別注意紅色的警示燈，通常設備運行出現(xiàn)問題或者抖動頻率過快的情況下紅色燈會常亮，這個時候應該馬上按下復位鍵觀察設備，如果設備依然出現(xiàn)異常則應該停止設備的運行，然后進行故障的排查，以避免設備出現(xiàn)損壞。


三，在使用低溫等離子清洗設備的時候要定期清洗，而清洗的時候必須要先斷開電源，然后再打開真空倉和電控箱，而且注意按照說明書上要求的規(guī)范清洗，除此之外現(xiàn)在很多低溫等離子設備的真空倉都是外置環(huán)形電級所以不容易出現(xiàn)腔內(nèi)污染。



綜上所訴可知：等離子清洗技術適用于對物體表面的油，水及微粒等輕度油污進行清洗，而且利于“速戰(zhàn)速決”的在線或批量清洗。以上提到的幾點基本上是所有類型的低溫等離子清洗設備的使用注意事項，而隨著設備的種類日漸繁多，操作人員在使用前應該詳細閱讀并了解使用說明才行，很多低溫等離子設備還需要操作人員受到上崗培訓才行。而且隨著很多低溫等離子設備開始帶有自潔功能，設備的日常保養(yǎng)也變得更加簡潔。等離子清洗機(plasma cleaner)也叫等離子清潔機，或者等離子表面處理儀，是一種全新的高科技技術，利用等離子體來達到常規(guī)清洗方法無法達到的效果。等離子體是物質的一種狀態(tài)，也叫做物質的第四態(tài)，并不屬于常見的固液氣三態(tài)。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的“活性”組分包括：離子、電子、原子、活性基團、激發(fā)態(tài)的核素（亞穩(wěn)態(tài)）、光子等。等離子清洗機就是通過利用這些活性組分的性質來處理樣品表面，從而實現(xiàn)清潔、涂覆等目的。

等離子體產(chǎn)生的條件：足夠的反應氣體和反應氣壓，反應產(chǎn)物須能高速撞擊清洗物的表面，具有足夠的能量供應，反應后所產(chǎn)生的物質必須是可揮發(fā)性的細微結合物,以便于真空泵將其抽走，泵的容量和速度須足夠大,以便迅速排出反應的副產(chǎn)品,并且需要快速地再填充反應所需的氣體。

等離子清洗機為什么會產(chǎn)生臭味？
答案是：臭氧在作怪

等離子體放電過程中產(chǎn)生臭氧的基本原理是含氧氣體在放電反應器內(nèi)所形成的低溫等離子體氛圍中，一定能量的自由電子將氧分子分解成氧原子，之后通過三體碰撞反應形成臭氧分子，同時也發(fā)生著臭氧的分解反應。

臭氧，化學分子式為O3，又稱三原子氧、超氧，因其類似魚腥味的臭味而得名，在常溫下可以自行還原為氧氣。比重比氧大，易溶于水，易分解。由于臭氧是由氧分子攜帶一個氧原子組成，決定了它只是一種暫存狀態(tài)，攜帶的氧原子除氧化用掉外，剩余的又組合為氧氣進入穩(wěn)定狀態(tài)，所以臭氧沒有二次污染。

如果我們通入的氣體中含有氧氣，那么在反應過程中就會產(chǎn)生少量的臭氧，正是因為有臭氧的產(chǎn)生，所以我們在使用等離子清洗機的時候有時會聞到一股臭味，這就是為什么等離子清洗機會產(chǎn)生臭味的原因了。一、清洗對象經(jīng)等離子清洗之后是干燥的，不需要再經(jīng)干燥處理即可送往下一道工序。可以提高整個工藝流水線的處理效率；
二、等離子清洗使得用戶可以遠離有害溶劑對人體的傷害，同時也避免了濕法清洗中容易洗壞清洗對象的問題；
三、避免使用三氯乙烷等ODS有害溶劑，這樣清洗后不會產(chǎn)生有害污染物，因此這種清洗方法屬于環(huán)保的綠色清洗方法。這在全球高度關注環(huán)保的情況下越發(fā)顯出它的重要性；
四、采用無線電波范圍的高頻產(chǎn)生的等離子體與激光等直射光線不同。等離子體的方向性不強，這使得它可以深入到物體的微細孔眼和凹陷的內(nèi)部完成清洗任務，因此不需要過多考慮被清洗物體的形狀。而且對這些難清洗部位的清洗效果與氟利昂清洗的效果相似甚至更好；
五、使用等離子清洗，可以使得清洗效率獲得極大的提高。整個清洗工藝流程幾分鐘內(nèi)即可完成，因此具有產(chǎn)率高的特點；
六、等離子清洗需要控制的真空度約為100Pa，這種清洗條件很容易達到。因此這種裝置的設備成本不高，加上清洗過程不需要使用價格較為昂貴的有機溶劑，這使得整體成本要低于傳統(tǒng)的濕法清洗工藝；
七、使用等離子清洗，避免了對清洗液的運輸、存儲、排放等處理措施，所以生產(chǎn)場地很容易保持清潔衛(wèi)生；
八、等離子體清洗可以不分處理對象，它可以處理各種各樣的材質，無論是金屬、半導體、氧化物，還是高分子材料（如聚丙烯、聚氯乙烯、聚四氟乙烯、聚酰亞胺、聚酯、環(huán)氧樹脂等高聚物）都可以使用等離子體來處理。因此特別適合于不耐熱以及不耐溶劑的材質。而且還可以有選擇地對材料的整體、局部或復雜結構進行部分清洗；
九、在完成清洗去污的同時，還可以改善材料本身的表面性能。如提高表面的潤濕性能、改善膜的黏著力等，這在許多應用中都是非常重要的。